KAIST, 실리콘 대체하는 이차원 반도체 기술 개발

반도체의 수평 성장 성질 이용해 쉽고 간편한 산화물, 금속 등의 10나노미터 이하 미세 패터닝 기술
서로 다른 이차원 물질 반복 성장해 10나노미터 이하 수준의 이차원 반도체 선형 패턴 제작

2024.03.28 11:07:43
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